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SP-3880AA塞曼原子吸收光譜儀

簡要描述:上海光譜SP-3880AA塞曼原子吸收光譜儀,國內(nèi)生產(chǎn)的*款塞曼扣背景原子吸收光譜。同時交流磁場,直流賽曼也是*,是上海光譜承擔(dān)的上海市科委2007科研條件支撐項目“全自動石墨爐火焰原子吸收一體機的研制"項目(項目編號:061422003)成果轉(zhuǎn)化的新產(chǎn)品,其中SP-3880AA為交直流塞曼扣背景全自動石墨爐火焰原子吸收一體機。

  • 產(chǎn)品型號:上海光譜
  • 廠商性質(zhì):代理商
  • 更新時間:2017-04-16
  • 訪  問  量:4994

詳細(xì)介紹

品牌SPECTRUM/上海光譜

上海光譜SP-3880AA塞曼原子吸收光譜儀,有多項不同于同類儀器的創(chuàng)新,主要的創(chuàng)新點有:

1、 國內(nèi)外*交、直流塞曼背景同時校正技術(shù)
該技術(shù)充分利用可變磁場電源,創(chuàng)造一種交流、直流磁場雙檢測器的測量方式,實現(xiàn)了交、直流塞曼效應(yīng)原子吸收背景的同時較正,并易于校正快速變換的背景信號。本產(chǎn)品既有交流磁場塞曼背景校正的優(yōu)點,又具有直流磁場塞曼背景校正的優(yōu)點,并使兩者的諸多缺點得以消除,該技術(shù)相對于原有的交變磁場塞曼背景校正,具有對于一些低溫元素測量經(jīng)常遇到的快速變化的背景信號基本不會帶來誤差的優(yōu)點。該技術(shù)相對于原有的直流磁場塞曼背景校正,具有磁場參數(shù)可以調(diào)整的特點,并具有分析靈敏度高的特點。交、直流塞曼背景同時校正技術(shù)為國內(nèi)外*。

2、 國內(nèi)*的開關(guān)型石墨爐直流加熱電源技術(shù)
該具有如下優(yōu)點:1.首先由于采用了直流開關(guān)電源,相對于原有的交流電源體積大大縮小,從而節(jié)省了空間;2.直流開關(guān)電源可以直接植入石墨爐內(nèi)部,作為內(nèi)部電源,以減少了引線,從而減少了引線上的電能消耗,和增加了系統(tǒng)的穩(wěn)定性;3.由于采用了直流開關(guān)電源,電能輸出穩(wěn)定,有利于提高石墨管電阻測量精度;4. 良好的高溫元素測定性能;5.由于采用了直流開關(guān)電源,石墨爐溫度測量變得更為準(zhǔn)確,石墨爐背景輻射影響大幅度降低;6.原子化升溫穩(wěn)定快速,且無噪音和石墨爐體振動;7 .該電源無可控硅電磁輻射,更環(huán)保。該技術(shù)為國內(nèi)*。

上海光譜SP-3880AA塞曼原子吸收光譜儀主要技術(shù)性能(指標(biāo)):

波長范圍:190nm~900nm
波長準(zhǔn)確度:±0.2nm
波長重復(fù)性:±0.1nm
儀器光度誤差:1.0Abs時≤0.01Abs,2Abs時≤0.02Abs
靜態(tài)基線穩(wěn)定性Cu):±0.003A/30min
靜態(tài)基線瞬時噪聲(Cu): 0.001A/5min(峰-峰值);
火焰特征濃度:Cu 0.03mg/L
測量精密度(RSD):Cu優(yōu)于0.5%
測量檢出限:Cu≤0.006 mg/L
石墨爐特征量:Cd優(yōu)于0.5pg
測量精密度(RSD):Cd優(yōu)于4%
測量檢出限:Cd≤1pg
氘燈背景校正能力:大于50倍(1Abs背景) 

塞曼背景校正能力:大于100倍(1Abs背景)

上海光譜

多項*技術(shù)和*功能于一體。儀器具有的突出性能有:
1. SP-3880AA在石墨爐直流供電橫向加熱技術(shù)、自動補償石墨爐電阻變化技術(shù)、橫向可變交流磁場塞曼背景校正技術(shù)、自吸背景校正技術(shù)等關(guān)鍵技術(shù)方面具有創(chuàng)新性,已申請7項發(fā)明(其中5項已獲初審合格通知書),3項實用新型(其中“一種有利于精確夾緊的石墨爐頭” 號:200820155398.6 證書號 1270983)。
2. 該產(chǎn)品為石墨爐火焰原子吸收一體化設(shè)計,避免了石墨爐與火焰兩種模式的機械切換,操作方便,系統(tǒng)具有交直流塞曼扣背景功能,能較好檢測高背景樣品的小信號,也能直接檢測高溫元素,具有較廣泛的應(yīng)用前景。
3. 該產(chǎn)品實現(xiàn)了全反射雙原子化器串聯(lián)型結(jié)構(gòu)技術(shù)、開關(guān)型石墨爐直流加熱電源技術(shù)、交直流塞曼背景校正技術(shù)均為國內(nèi)*。
4. SP-3880AA不僅實現(xiàn)了橫向可變交流磁場、直流磁場塞曼背景校正的一體化,并且實現(xiàn)了這兩種磁場塞曼背景校正的同時進(jìn)行,使得系統(tǒng)不僅既有恒定磁場的優(yōu)點又有交變磁場的優(yōu)點,同時在實際應(yīng)用中方便的進(jìn)行方法優(yōu)化,且為塞曼背景校正的深入研究提供了條件,該技術(shù)為*。

應(yīng)用領(lǐng)域和用途:
儀器定位于中擋偏上價位和性能,具有多種不同配置以適應(yīng)于不同用戶的需求。價格從25萬元~45萬元不等。儀器可廣泛應(yīng)用于食品、醫(yī)藥、環(huán)境、生物、農(nóng)業(yè)、石油化工、建筑、材料、地質(zhì)、冶金、科研等領(lǐng)域。鑒于儀器具有優(yōu)良的交流、直流塞曼背景和氘燈背景校正能力,該背景校正系統(tǒng)除能很好地校正傳統(tǒng)的分子吸收和粒子散射背景外,還能校正結(jié)構(gòu)背景和部分譜線重疊干擾,尤其適用在測定食品、中藥材、海水、血液、生物制品、高鹽溶液等樣品的痕量元素分析檢驗領(lǐng)域中使用。特別是對于日常必須分析的元素如Cd、Pb、Cu、Zn等,校正性能可與進(jìn)口塞曼儀器塞曼相媲美,但儀器價格僅為進(jìn)口塞曼儀器的1/2,將更適合我國國情。

 

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